商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
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磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),鍍鈦怎么收費,處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程,
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